Imec и ASML запустили лабораторию с опытным производством и контролем чипов
Лабораторию, оснащенную передовым литографическим и измерительным оборудованием, запустили компания ASML и международный научно-исследовательский центр микроэлектроники (imec), 6 июня пишет британский журнал об электронике Electronics Weekly.
Лаборатория запущена в Велдховене, Нидерланды. В ней разместили наиболее современную литографическую машину TWINSCAN EXE: 5000, работающую в экстремальном ультрафиолете (EUV) с высокой числовой апертурой. Также в лаборатории размещено все необходимое дополнительное оборудование и метрологические инструменты.
Лаборатория призвана помочь производителем микросхем опробовать новые литографические процессы перед закупкой и наладкой соответствующего дорогостоящего оборудования на своих заводах.
Согласно ожиданиям ASML массовый выпуск чипов с использованием EUV-литографов с высокой числовой апертурой начнется в 2025–2026 годах.
