В Fujifilm заявили, что помогут преодолеть мировой дефицит микросхем
Крупные инвестиции в производство материалов для фабрик по выпуску микросхем позволят японской компании Fujifilm помочь в преодолении мирового полупроводникового кризиса, заявили представители компании. Об этом 21 августа сообщило агентство Nikkei Asian Review.
Компания уже запланировала 40% увеличение объема инвестиций в технологии и оборудование для производства фоторезиста в сканеры EUV под технологические нормы менее 5 нм. Объем инвестиций за три года составит $637 млн. Особое внимание будет уделено производственным мощностям компании в США, говорится в сообщении агентства.
В компании рассчитывают, что производство фоторезиста станет одним из системообразующих в структуре доходов компании, рассказали авторы материала.
Напомним, японская компания Fujifilm является известным производителем материалов и химикатов для фотопромышленности — в том числе, фотолитографии. 11 заводов компании уже производят шесть химических компонентов для полупроводникового производства — в их числе, фоторезисты и растворы для полировки кремниевых пластин.
По прогнозам аналитиков компании Techcet, в 2021 году мировой рынок фоторезистов для сканеров EUV достигнет $51 млн — это на 90% больше, чем в 2020 году, а затем будет увеличиваться на 50% ежегодно до 2025 года.
Отметим, фоторезист для шаблонов с технологическими нормами 7 нм уже активно используется на предприятиях по выпуску микросхем TSMC и Samsung. Ожидается, что он может подходить и для 5 нм техпроцессов, однако есть риск увеличения процента брака, поэтому Fujifilm планирует перекрыть этот сектор своей активностью.
