Найден новый материал, позволяющий создать мощные процессоры для смартфонов

Изображение: (cc) geralt
Чип
Чип

Новый материал, из которого возможно создать мощные процессоры меньшего размера, чем существующие, нашли американские ученые, 19 марта сообщает портал phonearena.com

Существующие технологии производства чипов — сердца любой сложной электроники — фактически дошли до своего физического предела. Используемые при производстве микросхем классические материалы уже не позволяют существенно нарастить их производительность, которая зависит от количества размещенных элементов на кристалле процессора и способности материалов отводить тепло.

Так чип Apple A13 Bionic компании TSMC, который установлен в iPhone 11 серии, произведенный в 2019 году с использованием 7-нм технологического процесса содержит 8,5 млрд транзисторов (плотность размещения составляет 90 млн на квадратный миллиметр).

А чип A14 Bionic, 2020 года производства выполненный по 5-нм техпроцессу вмещает уже 11,8 млрд транзисторов (плотность размещения достигла 134 млн транзисторов на квадратный миллиметр).

В планах ведущих компаний перейти на использование 2-нм техпроцесса, что позволит достичь еще большей плотности, однако дальнейшая миниатюризация наталкивается на физические ограничения используемых материалов на отвод тепла при работе устройства.

Команда американских ученых из университета Вирджинии и Северо-Западного университета сообщила, что им удалось найти материал, который способен решить проблему отвода тепла от элементов при существенном уменьшении их размеров.

Для решения этой задачи ученым пришлось объединять исследования в нескольких областях науки и промышленности, таких как машиностроение, химия, материаловедение, электротехника, так как ни одно направление в одиночку уже не способно ответить на этот вызов.

Технология изготовления материала, основу которого составляет полимер — структура с низкой диэлектрической проницаемостью, описывается так.

С помощью 2D технологии на поверхности создается тонкая пленка полимера толщиной всего в один атом. Далее свойства нанесенной пленки контролируются и затем наносится следующий слой полимера. Таким образом, слой за слоем, ученым удалось создать структуру, с помощью которого можно перешагнуть существующий порог ограничения на отвод тепла от микроструктур.

Один из участников научной команды исследователей образно описал этот процесс — «для решения этой задачи мы фокусируемся на тепловых свойствах этого нового класса материалов, что является фантастикой, но еще более захватывающим является то, что мы просто царапаем поверхность».