Китайцы решили освоить электронную технологию без нового западного сканера

Нынешние проекты китайского производителя микросхем на заказ SMIC не требуют оборудования для литографии в жестком ультрафиолете (EUV), заявил председатель компании Чжоу Цисю 6 июля во время конференции с инвесторами, сообщил портал cnTechPost.

Чжоу отказался комментировать одну из поставок оборудования компании, сославшись на контрактное обязательство о неразглашении.

Напомним, в 2018 году голландский производитель оборудования для производства микросхем ASML объявил о поставке сканера для EUV-литографии, который должен был быть доставлен покупателю в конце 2019 года. Однако правительство Голландии, ссылаясь на Вассенаарские договоренности отказалось выдать разрешение на экспорт сканера.

SMIC запустила производство микросхем по техпроцессу с нормами 14 нм. Также компания объявила о том, что готовит следующие поколения этой технологии — N+1, N+2 и дальше. Другие компании используют в поколениях технологии после N+2 как раз сканеры с жестким ультрафиолетом. Однако SMIC заявляет, что она будет их осваивать до того, как получит EUV-оборудование.

Вассенаарские соглашения пришли на смену организации КОКОМ (Координационный комитет по экспортному контролю, CoCom), которая была призвана подставить под контроль поставки продукции двойного назначения в СССР и социалистические страны. Новые соглашения по контролю над экспортом западных технологий были заключены в нидерландском городе Вассенаар в 1996 году.

Сканеры EUV пока покупают только компании, освоившие техпроцесс 7 нм — тайваньская TSMC и корейский Samsung.