Японская компания пообещала представить устройство для литографии будущего
Передовую установку по нанесению покрытий на кремниевые подложки для микросхем обещала представить японская компания Tokyo Electron, 9 июня сообщает тайваньское издание об информационных технологиях и электронике DigiTimes.
Установка будет представлена в совместной лаборатории Imec-ASML в Нидерландах. Оборудование будет включено в состав литографической системы следующего поколения EXE: 5000. Последняя предназначена для литографии в глубоком ультрафиолете (EUV) с повышенной с 0,33 до 0,55 апертурой оптической системы.
Компания присоединится к работам над EXE: 5000. Устройства Tokyo Electron увеличит производительность нового литографического оборудования и расширит возможности по использованию резистов и других материалов.
Ее новая установка способна работать с фоторезистом нового поколения с достаточной точностью. В том числе, установка может работать с новыми металлосодержащими резистами. Такие резисты позволяют получить более детальный рисунок на оборудовании нового поколения, но заметно требовательнее к управлению процессом и чистоте рабочей зоны.
