Samsung начал строить новую линию по производству самых передовых микросхем

Новую производственную линию по изготовлению микросхем по самому передовому техпроцессу начал строить Samsung, о чем 21 мая сообщила пресс-служба компании.

Новая линия на фабрике в корейском Пхёнтхеке должна начать работу во второй половине 2021 года. Она будет выпускать микросхемы по техпроцессу 5 нм и меньше с использованием жесткого ультрафиолета (EUV). Компания планирует, что они будут использоваться в сфере 5G, высокопроизводительных вычислений и искусственного интеллекта.

Это будет вторая линия по производству микросхем 5 нм в дополнение к первой, которая должна начать работу в Хвасоне во второй половине 2020 года.

Напомним, главным конкурентом Samsung в сфере освоение передовых полупроводниковых технологий является тайваньская TSMC. Компания запустила массовое производство микросхем по техпроцессу 5 нм в апреле 2020 года. К концу года TSMC планируется запустить коммерческое использование мощностей, производящих микросхемы с нормами 3 нм.