Средство проектирования чипов Siemens сертифицировано под техпроцесс 2 нм
Сертификацию программного обеспечения (ПО) для проектирования микроэлектроники под техпроцессы N2 и N2P завершили компании Siemens Digital Industries Software и TSMC, 27 сентября пишет британский журнал об электронике Electronics Weekly.
N2 и N2P — это перспективные техпроцессы TSMC с нормами 2 нм. Каждый новый техпроцесс несет в себе не только изменения в микроструктуре, но и новые требования.
Отмечается, что сертификация включала в себя проверку нового набора функций LSVRF (Local Standard Verification Rule Format). Это метод проверки проверки отдельных областей разрабатываемого чипа на соответствие правилам проектирования.
В ПО внедрили технологию моделирования, которая учитывает процессы деградации микросхемы с течением времени и под воздействием повышенных температур.
Сейчас компании работают над сертификацией ПО для разработки аналоговых, смешанных и высокочастотных схем, а также чипов памяти. Дополнительно ведется работа над возможностью проектирования устройств с использованием кремниевой фотоники.
