В США разработали новый способ нанесения тонких атомных слоев

Новый способ нанесения тонких слоев атома на поверхность материалов разработали ученые американского Университета Алабамы, сообщает 27 октября портал «Хайтек».

Согласно сообщению, напыление производится при температуре, близкой к комнатной. Для нанесения слоя атомов используется технология ультразвуковой атомизации, которая испаряет химикаты, используемые в атомно-слоевом осаждении.

В технологии используется ультразвуковой преобразователь, помещенный в жидкий химический прекурсор. Преобразователь вибрирует несколько раз в секунду и создает туман из прекурсора. В тумане капли жидкости испаряются при специальных условиях, после чего остается ровный атомный слой.

«Капли микронного размера непрерывно испаряются и наносятся на поверхность материала», — говорится в статье.