Китай уменьшил технологию литографии для 14‑нм чипов до настольного формата

Технология компактного EUV‑источника для производства 14‑нм микросхем представлена компанией Hefei Lumiverse Technology (Хэфэй), сообщила 21 ноября South China Morning Post.

Демонстрация разработки состоялась на научной конференции UltrafastX в конце октября. Компания совершенствует выпуск полупроводников, применяемых в промышленной автоматике и электромобилях. Китайские исследователи и инженеры сократили одну из самых сложных и дорогих технологий современного производства микросхем до размеров настольного компьютера и задействовали ее для изготовления 14‑нанометровых кристаллов.

Хотя 14‑нм решения уже не относятся к передовому уровню — коммерческие литейные предприятия вышли на 3‑нм нормы — этот класс остается сбалансированным по производительности, стоимости и эффективности и востребован в устройствах от промышленной автоматизации до электромобилей и умных носимых устройств.