Китайский производитель чипов SMIC начал выпускать 7 нм продукцию год назад
Производство микросхем по техпроцессу 7 нм первого поколения начал в июле 2021 года крупнейший контрактный производитель чипов Китая SMIC, следует из отчета аналитической компании TechInsights, 21 июля сообщает американское интернет-издание о компьютерных технологиях Tom’s Hardware.
Утверждается, что реинжиниринг 7 нм продукции SMIC указывает на копирование аналогичной технологии крупнейшего тайваньского контрактного производителя чипов TSMC. Результат был получен SMIC несмотря на санкции США.
Под давлением США ведущий производитель литографического оборудования ASML не поставляет свои системы, работающие в экстремальном ультрафиолете (EUV) в Китай. 7 нм техпроцесс удалось запустить с применением фотолитографии в глубоком ультрафиолете (DUV).
Первое поколение 7 нм техпроцесса использовало DUV-литографию и в случае TSMC и Samsung. Для получения необходимых разрешений использовалась многопроходная процедура с применением иммерсионной среды и специальных масок.
Эти оптические ухищрения нужны, поскольку 193 нм лазер, применяемый в DUV-литографии, не позволяет получить разрешение ниже 45 нм.
По всей видимости, производство ведется не слишком большим тиражом и с низким уровнем выхода годной продукции. Но собственное 7 нм производство — важный шаг вперед для китайской полупроводниковой отрасли.
