В Японии началась заливка фундамента завода микрочипов с техпроцессом 2 нм
Церемонию начала строительства нового завода в городе Титосэ (Хоккайдо, Япония) провел японский производитель микросхем Rapidus, 1 сентября передает телеканал NHK.
Компания заявляет, что первую производственную линию на новом предприятии компания откроет уже в 2025 году. Полномасштабное производство по плану начнется примерно в 2027 году.
На строительство завода правительство Японии выделило 330 млрд иен (217 млрд руб.). Предполагается, что компания займется на этом предприятии изготовлением чипов, выполненных по технологическому процессу в 2 нм.
На церемонии присутствовали президент компании Rapidus Ацуёси Коикэ, министр промышленности Ясутоси Нисимура и губернатор Хоккайдо Наомити Судзуки.
Управляющая компания появилась в 2022 году в рамках совместного проекта Toyota Motor, Sony Group, NTT и еще пяти компаний. Компания намерена начать производство передовой полупроводниковой техники, необходимой для высокоскоростной обработки больших данных, применяемой в области автономных автомобилей и технологий искусственного интеллекта.
Напомним, идею о создании собственной технологической линии по производству микросхем по технологии 2 нм в мае 2022 года высказывали правительство Японии и США. Компанию Rapidus создали в августе того же года и к ноябрю правительство Японии определилось с размером финансирования предприятия, которое удалось выделить в рамках действовавшего бюджета.
В начале 2023 года компания выделила приоритетное расположение для своего будущего завода, и уже в июне строительную площадку посетил министр экономики, торговли и промышленности Японии Ясутоси Нисимура.
Тайваньская полупроводниковая корпорация TSMC также готовит производство микросхем с аналогичным технологическим процессом в 2025 году. Лидерство в производстве полупроводниковых приборов также разделяет южнокорейская корпорация Samsung, которая, наравне с тайваньским конкурентом, выпускает микросхемы по чуть более грубой технологии в 5 нм.
