1. За рубежом: реальный мир
  2. Электроника в мире
Лёвен, / ИА Красная Весна

Imec начал подготовку опытной линии чипов с нормами менее 2 нм

Изображение: (сс) IBM Research
EUV литография
EUV литография
EUV литография

Опытную линию для обкатки перспективных технологических процессов изготовления чипов начал готовить международный научно-исследовательский центр микроэлектроники (imec), 22 мая пишет британский журнал об электронике Electronics Weekly.

Инвестиции в строительство опытной линии ожидаются в объеме €2,5 млрд (244,75 млрд руб). Они будут включать как частные, так и государственные средства. €1,4 млрд поступит от европейского совместного предприятия, еще €1,1 млрд частных средств от ASML и других участников рынка.

На опытной линии NanoIC планируется освоить выпуск микросхем с техпроцессом ниже 2 нм. Также планируется принять участие в создании опытных линий по выпуску энергоэффективных чипов с применением техпроцесса FD-SOI и интегрированных гетерогенных электронных устройств.

Ожидается, что опытом создания NanoIC воспользуются не только предприятия из США и с Тайваня, но и промышленность Евросоюза.