Micron инвестирует в EUV-литографию для выпуска DRAM

Крупные средства в оборудование EUV (литография со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением) следующего поколения инвестирует производитель полупроводниковой продукции из США Micron, 2 июля пишет BusinessKorea.

Источник пишет со ссылкой на отраслевых экспертов, что компания будет следить за Samsung Electronics и SK Hynix, поддерживая разработку DRAM следующего поколения на основе нового литографического оборудования EUV.

30 июня Micron Technology объявила, что ее инвестиции в объекты на 2021 финансовый год (с сентября 2020 года по август 2021 года) превысят $9,5 млрд. Это на $500 млн больше, чем $9 млрд, вложенных в 2020 году. Micron заявила, что увеличение было в основном связано с инвестициями в оборудование EUV.

Компания планирует установить новое литографическое оборудование ASML NXE: 3600D на своих научно-исследовательских объектах в конце этого года. Ожидается, что Micron применит новое оборудование к линиям массового производства в экспериментальных целях, прежде чем серьезно использовать его для объемного производства.

Micron является третьей по величине компанией на мировом рынке DRAM долей в 23%. Она расширяет инфраструктуру для внедрения DRAM-технологий следующего поколения и обгона Samsung Electronics и SK Hynix.