Китай достиг прогресса в производстве литографического оборудования

У Китая есть прогресс в разработке технологии полупроводниковой литографии, поскольку Пекин стремится стать более самодостаточным в области производства высококачественного оборудования для чипов, 30 сентября сообщает гонконгское издание Asia Times.

Литографическое оборудование используется для переноса рисунков схем с фотошаблона на пластину на линиях по производству полупроводников. Это основное технологическое препятствие, которое Китай должен преодолеть, чтобы создать независимую полупроводниковую промышленность, которая не будет зависеть от санкций США.

Министерство промышленности и информационных технологий Китая объявило, что включило две литографические системы китайского производства в список оборудования, которое китайским производителям чипов нужно взять на вооружение.

Одна из них — сканер на основе фторида криптона, способный производить интегральные схемы с проектными нормами 130 нм. Другой — сканер на основе фторида аргона, способный производить чипы на 65 нм.