Собственные сканеры для производства микросхем появятся в Китае через год

Выпуск отечественных литографических сканеров для производства полупроводников по нормам 28 нм техпроцесса начнется в Китае через год или два, 5 июня сообщает китайский ресурс cnTechPost.

Как пишет издание, ссылаясь на свои источники в данной области, китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment Co. (SMEE) собирается модернизировать сканеры собственного производства, предназначенные для литографического выпуска полупроводников, и в 2021 или 2022 году представит на рынок установки для иммерсионной литографии, удовлетворяющие нормам 28 нм техпроцесса.

Издание отмечает, что несмотря на большой разрыв между современными сканерами Нидерландской компании ASML, которые предназначены для техпроцесса по 7 нм нормам, новая продукция SMEE продемонстрирует скачок в китайской литографии, сокращающей разрыв с ASML.

Напомним, на сегодняшний день SMEE выпускает сканеры, ориентированные на выпуск микросхем по нормам 280, 110 и 90 нм техпроцессов.

Также отметим, на китайский рынок приходится треть мировых продаж полупроводниковых микросхем, поэтому существует острая необходимость в импорте современного оборудования.