Micron изменила свое отношение к экстремальной ультрафиолетовой литографии
Фотолитографию в глубоком ультрафиолете (экстремальная ультрафиолетовая литография, EUV) намерена использовать американская компания по производству полупроводников Micron для производства процессоров поколения «дельта», сообщает 23 декабря портал Korea IT News.
Согласно сообщению, изначально Micron не планировала использовать EUV-сканеры для производства процессоров раньше 2023 года, но теперь компания начала поиск специалиста по закупке, установке и эксплуатации EUV-сканеров.
Инженер востребован на заводе в городе Бойсе штата Айдахо в США. Причем Micron уже нашла предполагаемого поставщика EUV-сканеров — нидерландскую компанию ASML.
Напомним, Samsung уже начала использовать EUV-сканеры для производства чипов третьего поколения 10-нм техпроцесса. Компания SK Hynix намерена применять EUV-сканеры для чипов четвертого поколения («альфа»). Поколение «дельта» будет седьмым поколением чипов 10-нм техпроцесса.
Отметим, что внедрение фотолитографии в глубоком ультрафиолете является очень дорогостоящим процессом, однако позволяет снизить себестоимость производства в длительной перспективе.
