В Москве сообщили о разработке фотолитографа с разрешением 350 нм

Первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм создала компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва», сообщил 23 марта мэр столицы Сергей Собянин в своем Telegram-канале.

По мнению Собянина, в мире не больше десяти стран, которые могут создавать такое оборудование для производства микросхем. Московский мэр заявил, что таким образом сделан важнейший шаг к технологической независимости России в области микроэлектроники.

Напомним, технология производства микросхем по нормам 350 нм внедрялась на Западе в 1990-х годах. Мировой лидер по производству чипов на заказ — тайваньская TSMC — обладает оборудованием для производства микросхем по техпроцессу 3 нм.

Сообщения о разработке российским Зеленоградским нанотехнологическим центром фотолитографа с разрешением 350 нм появились в мае 2024 года. Тогда сообщалось, что оборудованием создано совместно с белорусским предприятием «Планар».