В Intel рассказали, как планируют сделать продукцию быстрее и дешевле

Достижения в производстве микросхем, связанные с переходом на технологию производства Intel 4, раскрыл исполнительный директор компании Бен Селл, 13 июня сообщает британское интернет-издание о технологиях The Register.

Селл ответил на вопросы журналистов в преддверии конференции IEEE VLSI 2022. Он сообщил о прогрессе, которого удалось добиться компании благодаря переходу на литографию в экстремальном ультрафиолете (EUV).

Intel 4 (ранее 7 нм) — первый техпроцесс компании, использующий EUV для массового производства. Для производства продукции по техпроцессу 10 нм компания использовала DUV литографию в иммерсионной среде с применением нескольких проходов. Пять проходов в DUV литографии на один EUV.

В сумме этот переход дал не только увеличение производительности процессоров на новом техпроцессе по сравнению с текущим на 21,5%, либо повышение энергоэффективности при той же производительности на 40%, но и возможность быстрее и дешевле производить.

Оборудование для EUV литографии стоит дороже, но изделия на нем выпускаются быстрее и литографических машин нужно меньше. К тому же, в Intel заявил об увеличении процента выхода годной продукции.

Все это дает возможность компании, согласно заявлению Селла, производить продукции больше, быстрее и дешевле.