Китайская компания представила новое оборудование 3D-литографии

Оборудование для плоской и объемной литографии, а также создания фотошаблонов, iGrapher 3000 представила компания SVG Group, 28 июля сообщает портал ИТ-новостей из Китая cnTechPost.

Установки серии iGrapher предназначены как для прямого экспонирования микроструктур, так и для микро-нанолитографии. Отличительной особенностью 3000-й серии стала возможность 3D-литографии «микроструктурированной топографии».

Система позволяет производить проектирование, разработку и производство оптоэлектронных устройств. Кроме того, формировать фотошаблоны для промышленного производства печатных плат. Возможна печать на прозрачной основе размером до 110 дюймов (279,4 см) толщиной от 50 нм до 20 мкм.

Первое устройство было установлена на фабрике iVTouch, где был использовано для формирования микросхемы на токопроводящей прозрачной пленке. В дальнейшем iGrapher 3000 планируется применить для создания гибких микросхем и устройств для голографии.