Лидеров производства чипов никто не догонит в течение 5 лет — IC Insights
Ежегодные вложения в объеме 30 млрд долларов на протяжении 5 лет необходимы конкурентам лидеров полупроводниковой отрасли — тайваньской TSMC и корейского Samsung — чтобы догнать их по уровню технологий, заявили специалисты аналитической компании IC Insights в исследовании, опубликованном 16 марта пресс-службой фирмы.
Samsung и TSMC тратят на исследования и развитие технологий огромные суммы. За период с 2017 по 2020 год Samsung потратил 93,2 млрд долларов — небывалую сумму в истории полупроводниковой отрасли. Это в два раза больше 44,7 млрд долларов, которые за это же время потратили все китайские производители микросхем.
TSMC заявила, что потратит в 2021 году на вложения в основной капитал 25-28 млрд долларов. Аналитики IS Insights считают, что это начало периода рекордных трат компании на исследования.
Такие вложения позволили компаниям вырваться далеко вперед в деле освоения новых полупроводниковых технологий. Многолетний лидер по объему средств, выделяемых на разработку — американская Intel — утратила былые позиции, пропустив вперед в начале 2000-х годов Samsung, а теперь и TSMC. Это повлекло за собой и технологическое отставание крупнейшего поставщика процессоров в мире.
В сложившихся условиях IC Insights прогнозирует все большее отставание других компаний от двух лидеров развития полупроводниковых технологий, если какие-то компании или правительства Евросоюза, США или Китая не решат вкладывать в эту отрасль по 30 млрд долларов на протяжении 5 лет.
В случае Китая, авторы исследования напоминают о том, что компаниям этой страны недоступно новейшее оборудование для полупроводниковых фабрик, что ставит перед китайскими фирмами дополнительные трудности.
Напомним, TSMC и вслед за ней Samsung уже освоили технологии производства микросхем с нормами 10 нм, 7 нм и 5 нм. Intel испытывает серьезные трудности с внедрением техпроцесса 7 нм. Ведущий китайский производитель чипов SMIC обладает технологией только 14 нм и не может получит от голландской ASML оборудование для литографии с использованием жесткого ультрафиолета (EUV-сканер) для более современных технологий из-за санкций.
