Проверена работа первых чипов, основанных на новом китайском техпроцессе

Изображение: Никита Кузьмин © ИА Красная Весна
Микропроцессорная техника
Микропроцессорная техника

Тестирование микросхем, изготовленных в Китае по техпроцессу N+1, успешно завершила компания Innosilicon, 11 октября сообщила муниципальная газета Чжухайской особой экономической зоны Zhuhai Special Zone.

Продукция произведена на мощностях крупнейшего китайского контрактного производителя чипов Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC). Техпроцесс N+1 имеет норму 14 нм, но плотность установки транзисторов примерно соответствует техпроцессу 7 нм компании TSMC.

Газета не сообщила, какие именно чипы были проверены на работоспособность, однако компания Innosilicon занимается проектированием и поставками специализированного оборудования для добычи криптовалюты. Сообщается, что все вычислительные блоки новых чипов спроектированы в Китае.

Чипы произведены в опытном порядке. В опытно-промышленную эксплуатацию завод по производству по новым технологическим нормам будет запущен не ранее конца 2020 года.

Напомним, в феврале 2020 года генеральный директор SMIC Монг-Сон Лян заявил, что компания разработала новый техпроцесс N+1, который имеет значительно более плотную компоновку транзисторов FinFET, чем предыдущее поколение техпроцесса 14 нм.

Новый техпроцесс SMIC, с одной стороны, не требует дорогостоящего оборудования, работающего в глубоком ультрафиолетовом спектре (EUV), а с другой, подходит лишь для сравнительно маломощных чипов. Согласно заявлению Ляна, N+1 заметно уступает полноценному 7 нм техпроцессу по энергоэффективности.

В SMIC планировали начать работу с литографией с применением оборудования компании ASML, работающего в EUV-спектре, однако правительство США заблокировало сделку.

В компании сообщают, что и для следующего техпроцесса N+2 оборудование EUV-спектра не понадобится. В дальнейшем же планируется найти способ совершить сделку с ASML.