Заказчик ASML попробует новый вариант использования оборудования компании
Резко нарастить использование в микросхемах слоев полупроводниковых структур, полученных при помощи передовой технологии, намерен один из клиентов ведущего поставщика литографического оборудования — голландской ASML — заявил ее руководитель Питер Венник во время встречи с акционерами, сообщил 21 апреля портал Seeking Alpha, предоставивший запись этой встречи.
Венник заявил, что один из клиентов ASML намерен удвоить количество слоев в микросхеме, полученных при использовании сканеров, работающих с жестким ультрафиолетом (EUV). Кто именно из заказчиков компании намерен это сделать, Венник не пояснил. ASML намерена отгрузить в грядущем году 55 таких устройств.
Напомним, сканеры, работающие на жестком ультрафиолете, используются для производства микросхем по техпроцессу 10 нм и меньше. Такими технологиями обладают тайваньская TSMC, корейский Samsung и американская Intel. Кроме того по технологии 10 нм некоторые производители изготавливают память, однако ее кристаллы проще, чем процессорные, и требования к ним слабее.
EUV-сканеры находятся на переднем крае развития полупроводниковых технологий и поставляются не всем заказчикам. Например, китайская SMIC не смогла получить экземпляр такого оборудования. Поставка была заблокирована при помощи механизма Вассенаарских соглашений, которые призваны ограничить поставки оборудования для производства продукции двойного назначения в государства, недружественные странам-участницам этих соглашений.
